1、在設計上采用等溫加熱體，結構緊湊，加熱溫度穩(wěn)定；
2、該裝置除設有一樣氣輸出口外，還設置有一個可復用的反吹／校準口，在配置時可靈活安排氣路；
3、濾芯更換無需工具；
4、高效過濾清潔系統(tǒng)；
5、該裝置與樣品接觸的部分全部采用316L不銹鋼材料加工制成，高溫條件下抗腐能力很強，配制防雨罩完全可以勝任室外工作環(huán)境；
6、過濾器濾芯采用SiC陶瓷過濾器，具有過濾面積大，過濾精度高等特點，更換時可將其從裝置中整體拉出，操作簡單，無需工具，大大地縮短維護更換的時間，并降低了勞動強度；
7、操作簡單,帶有低溫報警；
8、高效過濾清潔系統(tǒng)。
方法原理：激光氣體分析儀的測量原理是可調諧半導體激光光譜吸收技術Tunable Diode Laser Absorption Spectroscopy)，TDLAS最早于20世紀70年代提出。初期的TDLAS技術只是一種實驗室研究用技術，隨著半導體激光技術在20世紀80年代的迅速發(fā)展，特別是20世紀90年代以來，基于TDLAS技術的現(xiàn)場在線分析儀表已逐漸發(fā)展成熟，能夠在各種高溫、高粉塵、高腐蝕等惡劣的環(huán)境下進行現(xiàn)場在線的氣體濃度測量。
可調諧半導體激光光譜吸收技術TDLAS本質上是一種光譜吸收技術，通過分析激光被氣體分子的選擇性吸收來獲得氣體的濃度。它與傳統(tǒng)紅外光譜吸收技術的不同之處在于，半導體激光光譜寬度遠小于氣體吸收譜線的展寬，如上圖。因此，半導體激光吸收光譜技術是一種高分辨率的光譜吸收技術。系統(tǒng)采用特定波長的激光束穿過被測氣體，激光強度的衰減與氣體的濃度滿足朗伯.比爾定理，因此可以通過檢測激光強度的衰減信息分析獲得被測氣體的濃度。采用半導體激光吸收光譜技術的激光氣體分析儀可從原理上抗背景氣體的干擾，測量結果可靠性高。
分析單元1、
不受背景氣體的影響傳統(tǒng)非色散紅外光譜吸收技術采用的光源譜帶很寬，其譜寬范圍內除了被測氣體的吸收譜線外，還有很多基他背景氣體的吸收譜線。因此，光源發(fā)出的光除了被待測氣體的多條譜線吸收外還被一些背景氣體的吸收，從而導致測量的不準確性。 而半導體激光吸收光譜技術中使用的半導體激光的譜寬小于0.001nm，遠小于被測氣體一條吸收譜線的譜寬。如圖5所示的“單線吸收光譜”數(shù)據(jù)。 同時在選擇該吸收譜線時，就保證在所選吸收譜線頻率附近約10倍譜線寬度范圍內無測量環(huán)境中背景氣體組分的吸收譜線，從而避免這些背景氣體組分對被測氣體的交叉吸收干擾，保證測量的準確性。
2.
不受粉塵干擾如圖5激光氣體分析儀通過調制激光器的頻率使之周期性地掃描被測氣體的吸收譜線，激光頻率的掃描范圍被設置為大于被測氣體吸收譜線的寬度，從而在一次掃描中包含有不被氣體吸收譜線衰減的圖2-1中的黃綠區(qū)（1區(qū)）和被氣體吸收譜線衰減的紅色區(qū)（2區(qū)）。從1區(qū)得到的測量信號包含粉塵和視窗污染的透過率，從2區(qū)得到的測量信號除包含粉塵和視窗污染的透過率還包含被氣體吸收的光強衰減。因此，通過在一個激光頻率掃描周期內對1區(qū)和2區(qū)的同時測量可以準確獲得被氣體吸收衰減掉的透光率，從而不受粉塵及視窗污染產(chǎn)生光強衰減對氣體測量濃度的影響。
標準依據(jù)：HJ 75-2017 固定污染源煙氣（SO2，NOX，顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測技術規(guī)范
GB 13223-2011 《火力發(fā)電廠大氣污染物排放標準》
GB 3095-2012《環(huán)境空氣質量標準》
HJ 76-2017 固定污染源煙氣（SO2，NOX，顆粒物）排放連續(xù)監(jiān)測系統(tǒng)技術要求及檢測方法
HJ/T 179-2011 《火電廠煙氣脫硫工程技術規(guī)范(氨法)》
